Microstructure and electrical property of tantalum oxynitride thin films preparedusing high-power impulse reactive magnetron sputtering
李英杰
李英杰
分類: 期刊  /   SCI(Sciences Citation Index)  /  
2020
作者
建檔日期2021-03-24
作者順序第三作者
通訊作者
發表年份2020
發表月份10
期刊名稱Japanese Journal of Applied Physics,
出版地國別/地區日本
發表卷數59
發表期數11
起始頁11650
結束頁11650
審稿制度
出版語言中文