Influences of annealing temperature on microstructure and properties for TiO2 films deposited by DC magnetron sputtering.
副教授
08-7703202
# 6197(O)
# 6191(Lab)
cmc23@mail.npust.edu.tw
| 年份 | 2015 |
| 作者 | |
| Created date | 2019-01-16 |
| 作者順序 | 第二作者 |
| 通訊作者 | 否 |
| 發表年份 | 2015 |
| 發表月份 | 10 |
| 期刊名稱 | Japanese Journal of Applied Physics |
| 出版地國別／地區 | 日本 |
| 發表卷數 | 54 |
| 發表期數 | 12 |
| 發表型式 | |
| 審稿制度 | 是 |
| 出版語言 | 外文 |
| 所屬計畫案 | 無 |