Influences of annealing temperature on microstructure and properties for TiO2 films deposited by DC magnetron sputtering.
副教授
08-7703202
# 6197(O)
# 6191(Lab)
cmc23@mail.npust.edu.tw
| 年份 | 2015 |
| 作者 | Shang, Jie-Ting*, 陳志銘, Ta-Chih Cheng, Ying-Chieh Lee |
| Author count | 4 |
| Created date | 2019-02-19 |
| 作者順序 | 第二作者 |
| 通訊作者 | 否 |
| 發表年份 | 2015 |
| 發表月份 | 6 |
| 期刊名稱 | Japanese Journal of Applied Physics |
| 出版地國別／地區 | 中華民國 |
| 發表卷數 | 54(12)：125501-1 ~ 125501-6 |
| 發表型式 | |
| 審稿制度 | 否 |
| 出版語言 | 外文 |
| 所屬計畫案 | 無 |