Reaction Mechanisms in Both a CHF3/O2/Ar and CHF3/H2/Ar Radio Frequency Plasma Environment
| 年份 | 1999 |
| 作者 | 王雅玢*, 李文智, 陳志勇, 謝連德 |
| Author count | 4 |
| Created date | 2019-02-19 |
| 作者順序 | 第四(以上)作者 |
| 通訊作者 | 否 |
| 發表年份 | 1999 |
| 發表月份 | 9 |
| 期刊名稱 | Industrial and Engineering Chemistry Research |
| 出版地國別／地區 | 中華民國 |
| 發表卷數 | 38 |
| 發表期數 | 9 |
| 起始頁 | 3199 |
| 結束頁 | 3210 |
| 發表型式 | |
| 審稿制度 | 否 |
| 出版語言 | 外文 |
| 所屬計畫案 | 無 |