Properties of low temperature deposited ZnO thin films on the glass substrate by cathodic arc plasma technology with different film thickness

Properties of low temperature deposited ZnO thin films on the glass substrate by cathodic arc plasma technology with different film thickness

教授    7555    ryyang@mail.npust.edu.tw
年份2013
作者楊茹媛*, Chin-Min Hsiung, Chun-Chih Huang, Tsung-Lin Yang
Author count4
Created date2019-02-19
作者順序第一作者
通訊作者
發表年份2013
發表月份9
期刊名稱Advanced Science Letters
出版地國別/地區中華民國
發表卷數9
發表期數19
起始頁2818
結束頁2822
發表型式
審稿制度
出版語言外文
所屬計畫案