Properties of low temperature deposited ZnO thin films on the glass substrate by cathodic arc plasma technology with different film thickness
Properties of low temperature deposited ZnO thin films on the glass substrate by cathodic arc plasma technology with different film thickness
教授
7555
ryyang@mail.npust.edu.tw
年份 | 2013 |
作者 | 楊茹媛*, Chin-Min Hsiung, Chun-Chih Huang, Tsung-Lin Yang |
Author count | 4 |
Created date | 2019-02-19 |
作者順序 | 第一作者 |
通訊作者 | 是 |
發表年份 | 2013 |
發表月份 | 9 |
期刊名稱 | Advanced Science Letters |
出版地國別/地區 | 中華民國 |
發表卷數 | 9 |
發表期數 | 19 |
起始頁 | 2818 |
結束頁 | 2822 |
發表型式 | |
審稿制度 | 否 |
出版語言 | 外文 |
所屬計畫案 | 無 |