Microstructure and electrical property of tantalum oxynitride thin films preparedusing high-power impulse reactive magnetron sputtering
教授
7556
YCLee@mail.npust.edu.tw
| 年份 | 2020 |
| 作者 | 李英杰* |
| Author count | 1 |
| Created date | 2021-03-24 |
| 作者順序 | 第三作者 |
| 通訊作者 | 是 |
| 發表年份 | 2020 |
| 發表月份 | 10 |
| 期刊名稱 | Japanese Journal of Applied Physics, |
| 出版地國別／地區 | 日本 |
| 發表卷數 | 59 |
| 發表期數 | 11 |
| 起始頁 | 11650 |
| 結束頁 | 11650 |
| 發表型式 | |
| 審稿制度 | 是 |
| 出版語言 | 中文 |