Magnetic force enhanced atmospheric plasma polishing ability to improve surface roughness of copper base materials
陳晧隆
陳晧隆
分類: 期刊  /   中文期刊(EI)  /  
2021
作者
建檔日期2022-02-23
作者順序第一作者
通訊作者
發表年份2021
發表月份1
期刊名稱物理期刊
出版地國別/地區美國
發表卷數2020
發表期數012001
起始頁1
結束頁8
審稿制度
出版語言中文
所屬計畫案MOST107-2622-E-020-012 -CC3