Influences of annealing temperature on microstructure and properties for TiO2 films deposited by DC magnetron sputtering
鄭達智
鄭達智
分類: 期刊  /   SCI(Sciences Citation Index)  /  
2015
作者
建檔日期2019-03-26
作者順序第三作者
通訊作者
發表年份2015
發表月份10
期刊名稱Japanese Journal of Applied Physics
出版地國別/地區英國
發表期數54
審稿制度
出版語言外文
所屬計畫案----