Influences of annealing temperature on microstructure and properties for TiO2 films deposited by DC magnetron sputtering.
陳志銘
陳志銘
2015
作者
建檔日期2019-02-19
作者順序第二作者
通訊作者
發表年份2015
發表月份6
期刊名稱Japanese Journal of Applied Physics
出版地國別/地區中華民國
發表卷數54(12):125501-1 ~ 125501-6
審稿制度
出版語言外文
所屬計畫案