Influences of Annealing Temperature on Microstructure and Properties for TiO2 Films Deposited by DC Magnetron Sputtering
教授
7556
YCLee@mail.npust.edu.tw
| 年份 | 2015 |
| 作者 | |
| Created date | 2019-01-16 |
| 作者順序 | 第四(以上)作者 |
| 通訊作者 | 是 |
| 發表年份 | 2015 |
| 發表月份 | 10 |
| 期刊名稱 | Japan Journal of Applied Physics |
| 出版地國別／地區 | 日本 |
| 發表卷數 | 54 |
| 發表期數 | ---- |
| 發表型式 | |
| 審稿制度 | 是 |
| 出版語言 | 外文 |
| 所屬計畫案 | ---- |