Influence of Die-shift-distance of Overhang Dies on Residual Thermal Shear Stress in 5-chip SiP after EMC Curing

Influence of Die-shift-distance of Overhang Dies on Residual Thermal Shear Stress in 5-chip SiP after EMC Curing

教授    7016 實驗室:粉體技術研發實驗室 (分機7348)    cschou@mail.npust.edu.tw
年份2016
作者
Created date2019-01-16
作者順序第三作者
通訊作者
發表年份2016
發表月份2
期刊名稱Materials and Design
出版地國別/地區荷蘭王國
發表卷數512–521
發表期數92
發表型式
審稿制度
出版語言外文
所屬計畫案