Effect of the Ti-target arc current on the properties of Ti-doped ZnO thin films prepared by dual-target cathodic arc plasma deposition
Effect of the Ti-target arc current on the properties of Ti-doped ZnO thin films prepared by dual-target cathodic arc plasma deposition
教授
  
7555
  
ryyang@mail.npust.edu.tw
| 年份 | 2016 | 
| 作者 | |
| Created date | 2019-01-16 | 
| 作者順序 | 第三作者 | 
| 通訊作者 | 否 | 
| 發表年份 | 2016 | 
| 發表月份 | 6 | 
| 期刊名稱 | Ceramics International | 
| 出版地國別/地區 | 中華民國 | 
| 發表卷數 | 42 | 
| 發表期數 | ---- | 
| 發表型式 | |
| 審稿制度 | 是 | 
| 出版語言 | 外文 | 
| 所屬計畫案 | NSC 101-2628-E-020-002-MY3 |