Effect of the Ti-target arc current on the properties of Ti-doped ZnO thin films prepared by dual-target cathodic arc plasma deposition
Effect of the Ti-target arc current on the properties of Ti-doped ZnO thin films prepared by dual-target cathodic arc plasma deposition
教授
7555
ryyang@mail.npust.edu.tw
年份 | 2016 |
作者 | |
Created date | 2019-01-16 |
作者順序 | 第三作者 |
通訊作者 | 否 |
發表年份 | 2016 |
發表月份 | 6 |
期刊名稱 | Ceramics International |
出版地國別/地區 | 中華民國 |
發表卷數 | 42 |
發表期數 | ---- |
發表型式 | |
審稿制度 | 是 |
出版語言 | 外文 |
所屬計畫案 | NSC 101-2628-E-020-002-MY3 |