Effect of the Ti-target arc current on the properties of Ti-doped ZnO thin films prepared by dual-target cathodic arc plasma deposition

Effect of the Ti-target arc current on the properties of Ti-doped ZnO thin films prepared by dual-target cathodic arc plasma deposition

教授    7555    ryyang@mail.npust.edu.tw
年份2016
作者
Created date2019-01-16
作者順序第三作者
通訊作者
發表年份2016
發表月份6
期刊名稱Ceramics International
出版地國別/地區中華民國
發表卷數42
發表期數----
發表型式
審稿制度
出版語言外文
所屬計畫案NSC 101-2628-E-020-002-MY3