Characterization of aluminum-doped zinc oxide (AZO) thin films by rf magnetron sputtering at different substrate temperature and sputtering power

Characterization of aluminum-doped zinc oxide (AZO) thin films by rf magnetron sputtering at different substrate temperature and sputtering power

教授    7555    ryyang@mail.npust.edu.tw
年份2013
作者Hung-Wei Wu, 楊茹媛*, Chin-Min Hsiung, Chien-Hsun Chu
Author count4
Created date2019-02-19
作者順序第二作者
通訊作者
發表年份2013
發表月份1
期刊名稱Journal of Materials Science: Materials in Electronics
出版地國別/地區中華民國
發表卷數24
起始頁166
結束頁171
發表型式
審稿制度
出版語言外文
所屬計畫案