Effect of a rotating magnetic field on the moving pattern and collision attrition of magnetic particles

Effect of a rotating magnetic field on the moving pattern and collision attrition of magnetic particles

教授    7016 實驗室:粉體技術研發實驗室 (分機7348)    cschou@mail.npust.edu.tw
年份2008
作者周春禧*, 葉俊宏
Author count2
Created date2019-02-19
作者順序第一作者
通訊作者
發表年份2008
發表月份5
期刊名稱Advanced Powder Technology
出版單位Koninklijke Brill NV, Leiden and Society of Powder Technology, Japan
出版地國別/地區中華民國
發表卷數19
發表期數3
起始頁253
結束頁275
發表型式
審稿制度
出版語言外文
所屬計畫案