Influences of annealing temperature on microstructure and properties for TiO2 films deposited by DC magnetron sputtering
教授
6423
tccheng88@mail.npust.edu.tw
| 年份 | 2015 |
| 作者 | 鄭達智* |
| Author count | 1 |
| Created date | 2019-03-26 |
| 作者順序 | 第三作者 |
| 通訊作者 | 否 |
| 發表年份 | 2015 |
| 發表月份 | 10 |
| 期刊名稱 | Japanese Journal of Applied Physics |
| 出版地國別／地區 | 英國 |
| 發表期數 | 54 |
| 發表型式 | |
| 審稿制度 | 是 |
| 出版語言 | 外文 |
| 所屬計畫案 | ---- |