The Optimum Conditions for Preparing the ZnO films by the cathode arc plasma technique Using the Taguchi Method 楊茹媛 分類: 研討會 / 年2011作者許碩夫, 周至宏, 方俊雄, 楊茹媛*, 翁敏航作者人數5建檔日期2019-02-19作者順序4通訊作者false發表年份2011會議名稱Taiwan Association for Coating and Thin Film Technology舉行之國家中華民國開始日期2011-09-20結束日期2011-09-20審稿制度否發表語言外文
