The Optimum Conditions for Preparing the ZnO films by the cathode arc plasma technique Using the Taguchi Method
教授
7555
ryyang@mail.npust.edu.tw
| 年份 | 2011 |
| 作者 | 許碩夫, 周至宏, 方俊雄, 楊茹媛*, 翁敏航 |
| Author count | 5 |
| Created date | 2019-02-19 |
| 作者順序 | 4 |
| 通訊作者 | false |
| 發表年份 | 2011 |
| 會議名稱 | Taiwan Association for Coating and Thin Film Technology |
| 舉行之國家 | 中華民國 |
| 開始日期 | 2011-09-20 |
| 結束日期 | 2011-09-20 |
| 審稿制度 | 否 |
| 發表語言 | 外文 |