MOCVD磊晶沈積均勻度的三維熱流數值研究(Study on the MOCVD Epitaxy Deposition Uniformity by a Three-Dimensional Flow Model)

MOCVD磊晶沈積均勻度的三維熱流數值研究(Study on the MOCVD Epitaxy Deposition Uniformity by a Three-Dimensional Flow Model)

副教授    7005    tchiang@mail.npust.edu.tw
年份2002
作者
Created date2019-02-19
作者順序4
通訊作者false
發表年份2002
會議名稱B037中華民國力學學會第二十六屆全國力學會議
舉行之國家中華民國
開始日期2002-12-01
結束日期2002-12-01
審稿制度
發表語言中文