A Study of Nickel-Chromium-Silicon Thin Film Deposited By Co-Sputter

A Study of Nickel-Chromium-Silicon Thin Film Deposited By Co-Sputter

教授    7556    YCLee@mail.npust.edu.tw
年份2011
作者黃勇霖, 李英杰*, 陳奕賓
Author count3
Created date2019-02-19
作者順序2
通訊作者false
發表年份2011
會議名稱2011 International Symposium on Nano Science and Technology (ISNST’10)
舉行之城市Tainan
舉行之國家中華民國
開始日期2011-11-18
結束日期2011-11-18
審稿制度
發表語言外文