退火製程對於二氧化鈦薄膜光催化降解亞甲藍之研究

退火製程對於二氧化鈦薄膜光催化降解亞甲藍之研究

教授    6020、7568    hklin@mail.npust.edu.tw
年份2020
作者林鉉凱*, 盧威華
Author count2
Created date2020-09-26
作者順序3
通訊作者true
發表年份2020
會議名稱109年中國材料科學學會年會
舉行之城市新北市
舉行之國家中華民國
開始日期2020-11-06
結束日期2020-11-07
審稿制度
發表語言中文