沈積厚度對直流反應濺鍍法製備氮化鋁薄膜之C軸取向與電性分析

沈積厚度對直流反應濺鍍法製備氮化鋁薄膜之C軸取向與電性分析

教授       hsiung@mail.npust.edu.tw
年份2009
作者熊京民, 陳威宇, 楊茹媛*, 廖敦帆, 翁敏航, 張守進
Author count6
Created date2019-02-19
作者順序1
通訊作者false
發表年份2009
會議名稱中國材料科學學會2009年會
會議起始頁碼181
會議結束頁碼181
舉行之城市台東
舉行之國家中華民國
開始日期2009-11-26
結束日期2009-11-26
審稿制度
發表語言中文